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TCAD
Technology Computer Aided Design（TCAD）
技术开発と製造のための半导体処理、デバイス运用および相互接続特性评価のシミュレーション。
イノベーションを加速するプロセスおよびデバイス?シミュレーション?ツール
テクノロジCAD（TCAD）は、コンピュータ?シミュレーションを利用して半導体プロセス?テクノロジおよびデバイスの開発と最適化を行います。シノプシスのTCADは、业界をリードするプロセスおよびデバイス?シミュレーション?ツールと、シミュレーション?タスクの管理やシミュレーション結果解析のための強力なGUIシミュレーション環境を含む包括的な製品群をご提供します。TCADプロセスおよびデバイス?シミュレーション?ツールはCMOS、パワー、メモリ、イメージ?センサ、太陽電池、アナログ/RFデバイスなどの幅広いアプリケーションに対応します。また、シノプシスTCADは配線のモデリングおよび抽出用のツールを備えており、チップ性能を最適化するための重要な寄生情報を提供します。
主な特长
- 新しいデバイス构造の検讨により、プロセスおよびデバイスの有力な开発経路を选択
- 罢颁础顿を利用してプロセスのパラメータ空间を绵密に検讨することにより、プロセスのモジュールとインテグレーションを最适化するとともに、実験ウェハーを削减して、开発期间を短缩
- 罢颁础顿を利用することで、プロセスのばらつきがデバイス性能に及ぼす影响を把握して解析したり、工程能力、ロバスト性、歩留りを向上させることが可能
概要
テクノロジ颁础顿（罢颁础顿）は、コンピュータ?シミュレーションを利用して半导体プロセス?テクノロジおよびデバイスの开発と最适化を行います。シノプシスの罢颁础顿ソフトウェアは、拡散、输送方程式などの基本的な物理の偏微分方程式を解き、半导体デバイスの构造的特性と电気的动作をモデル化します。このような绵密な物理的手法により、罢颁础顿シミュレーションは、様々なテクノロジに対して予测性の高い精度を実现します。新しい半导体デバイスまたはテクノロジを开発し、评価する际に罢颁础顿シミュレーションを利用することで、コストと时间がかかるウェハー试作を削减できます。
シノプシスTCADツールは、あらゆる主要半導体企業がテクノロジの開発サイクル全体にわたって採用しています。テクノロジ開発の早期段階では、设计者は実験データを入手できなくてもTCADツールを利用し、チャネル移動度の向上と性能目標達成のために基板の设计を工夫するなど、製品设计のオプションを検討できます。プロセス?インテグレーションの段階では、シノプシスTCADツールを利用して実験計画法（DOE）などの条件振りロットのシミュレーションを行うことができます。これにより、プロセスを包括的に評価および最適化し、実際のウェーハでの試作を削減することで、時間とコストの節減が可能になります。プロセスを製造に導入する段階では、TCADツールを利用して量産におけるAPC(Advanced Process Control)のメカニズムを構築し、パラメトリック?イールドを改善することができます。